鋁電解電容的發展歷程
鋁電解電容在電容器中占二位,本來這類電容器是一般的直流電容器,由于它從材料、工藝、和結構上都發生了變化,從直流發展到交流,從低溫發展到高溫,從通用性發展到性,從一般結構發展到片式、扁平、書本式等結構,大容量擴擴展到4F左右,使用頻率已達到30KHZ,工作溫度已達到-55℃—125℃,額定電壓已達到700v。
在材料上,現在用的鋁箔在成份和結構上都已經不要求高純。為了提高起始腐蝕點數、機械強度及介質氧化膜的性能,箔中要適當含有些雜質,有的采用合金箔。
在工藝上,鋁電解電容器在工藝上的進展主要是腐蝕、賦能兩個工藝。腐蝕工藝是根據對電容器的性能要求,腐蝕出不同坑洞形貌的鋁箔。賦能工藝可以制造出的介質氧化膜,而且還可以根據要求不同,制造出不同的介質氧化膜。
在結構上,主要有兩種,一種是箔式卷繞形的,另一種是鋁粉燒結多孔塊狀的,所用的固體電解質主要是MnO2。
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